某电子厂房净化空调工程改造设计方案内容介绍该厂房位于天津市开发区,建于1995年,主要生产半导体芯片。厂房共建三层,需改造项目位于二层,系统的平面布置如图1所示。系统总面积1510m2,其中空调面积385m2,净化面积1125m2,净化级别除黄光室为千级外,其余均为万级。
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